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双H桥中频磁控溅射电源：原理、设计与应用的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代工业的快速发展进程中，薄膜制备技术作为材料表面改性与功能化的关键手段，广泛应用于电子信息、航空航天、新能源、光学等众多领域。从半导体芯片制造中的金属布线、集成电路绝缘层，到太阳能电池的光电转换层、航空发动机叶片的热障涂层，再到光学镜片的增透膜、反射膜等，薄膜材料的性能与质量直接影响着相关产品的性能、可靠性与使用寿命。而磁控溅射技术，凭借其沉积速率快、薄膜质量高、可制备材料种类丰富、工艺重复性好等诸多优势，已成为目前最具应用价值和发展潜力的薄膜制备技术之一。

中频磁控溅射电源作为磁控溅射系统的核心组成部分