半导体工艺仿真：化学气相沉积仿真_（1）.化学气相沉积(CVD)基础知识.docx

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化学气相沉积(CVD)基础知识

1.化学气相沉积(CVD)的定义

化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）是一种通过化学反应将气态前驱体转化为固态薄膜沉积在基底上的技术。CVD广泛应用于半导体制造中，可以制备各种高质量的薄膜材料，如SiO2、Si3N4、多晶硅、金属薄膜等。CVD技术的核心在于控制化学反应的条件，使前驱体分子在基底表面发生分解、聚合或化学吸附，最终形成所需的薄膜。

1.1CVD的基本过程

CVD的基本过程可以分为以下几个步骤：

气态前驱体的引入：将气态前驱体引入反应室中。

温度控制：通过加热基底或反