基于N位旋转测量的光学平面绝对检测技术的深度剖析与创新应用.docx

基于N位旋转测量的光学平面绝对检测技术的深度剖析与创新应用

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，高精度平面检测技术一直是研究的重点与核心，其重要性如同基石之于高楼，贯穿于光学元件制造、光学系统装配以及各类前沿光学研究之中。随着光学技术向高分辨率、大尺寸、多功能方向迅猛发展，对光学平面检测精度的要求也达到了前所未有的高度。

在半导体光刻技术中，为实现更小线宽和更高集成度，光刻物镜的平面元件面形精度需控制在亚纳米量级，哪怕极其微小的面形误差，都可能导致光刻图案的偏差，进而影响芯片性能与良品率。在天文观测领域，大口径望远镜的反射镜平面度直接决定了其成像质量与观测能力，微小的面形瑕疵会使