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制造工艺仿真：光刻仿真_（12）.光刻仿真的案例分析.docx

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    光刻仿真的案例分析

    在上一节中，我们讨论了光刻仿真的基本概念和常见工具。现在，我们将通过具体的案例来深入分析光刻仿真的应用和技术细节。本节将涵盖以下几个方面：

    案例一：基本光刻过程仿真

    案例二：复杂多层光刻仿真

    案例三：光刻分辨率和焦深仿真

    案例四：光刻工艺参数优化仿真

    案例五：光刻缺陷仿真与分析

    1.案例一：基本光刻过程仿真

    1.1原理

    光刻过程是将光敏材料（光刻胶）通过曝光、显影、刻蚀等步骤在半导体基板上形成所需图案的过程。基本光刻过程仿真主要关注以下几个步骤：

    曝光：使用光源和掩模将图案转移到光刻胶上。

    显影：去除未曝光或曝光部分的光刻胶，形成

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