制造工艺仿真：沉积仿真_2.沉积设备与工艺流程.docx

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2.沉积设备与工艺流程

在制造工艺仿真中，沉积仿真是一个重要的环节，因为它涉及到各种材料的沉积过程，这些过程直接关系到芯片的质量和性能。沉积设备的选择和工艺流程的设计是保证沉积质量的关键因素。本节将详细介绍常见的沉积设备及其工作原理，以及沉积工艺流程的基本步骤和注意事项。

2.1常见沉积设备

2.1.1化学气相沉积（CVD）

化学气相沉积（CVD）是一种通过化学反应在基底上沉积薄膜的技术。CVD设备通常包括反应室、气体输送系统、加热系统和废气处理系统。

反应室

反应室是CVD过程的核心部分，其中气体在高温下发生化学反应生成沉积物。反应室的设计