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集成电路制造工艺 课件 第3章 光刻.pptx

集成电路制造工艺 课件 第3章 光刻.pptx

    集成电路制造工艺

    --光刻工艺的基本原理;;;§3.1光刻工艺的基本原理;§3.1光刻工艺的基本原理;第一次图形转移;§3.1光刻工艺的基本原理;谢谢！;集成电路制造工艺

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    邻叠氮萘醌类化合物经紫外光照射后，分解释放出氮气，同时分子结构进行重排，产生环的收缩作用，再经水解生成羰酸衍生物，成为能溶于碱性溶液的物质，从而显示图形。;;;§3.2光刻胶;掩膜版与光刻胶之间的关系;谢

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