可摘局部义齿工艺技术复习题.docx

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可摘局部义齿工艺技术复习题

一、单选题(共100题,每题1分,共100分)

1.经电解抛光后的支架,一般应放入10%氢氧化钠中处理()分钟

A、2

B、10

C、20

D、30

E、5

正确答案:B

2.属于基托的作用的是:()

A、固位作用

B、支持和分散牙合力作用

C、连接作用

D、恢复缺损组织外形的作用

E、以上都是

正确答案:E

3.铸圈可以在完成包埋以后至少:()

A、2小时以后焙烧

B、30分钟以后焙烧

C、24小时以后焙烧

D、1小时以后焙烧

E、马上就可以焙烧

正确答案:A

4.现有向近中舌侧倾斜的下颌孤立的最后一颗磨牙,需要设计卡环:()

A、延伸卡环

B、圈形卡环

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