热退火对SiO2薄膜光学性能影响研究.pdfVIP

对热退火对SiO薄膜光学性能影响的洞察

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1,2，季一Qin2,3222

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,，刘，，2，311，先进微结构材料

重点，大学系，，200092，2光学薄膜重点，天

津技术，300192，3可调激光科学与技术国家重点，光

电技术，工业大学，，150080，*通讯作者邮箱：jygang

4089@163.com

退火是改变薄膜性能的重要方法。研究了在空气中热处理对SiO薄膜光学性质的影响。采用离子束溅射（I

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BS）技术在Si(110)基底上沉积了SiO薄膜，然后在不同热退火时间（16小时、24小时、36小时、64小时）和

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温度（从100°C到600°C，持续24小时）下进行空气中的退火处理。直接在沉积后和热处理后研究了折射率和厚

度等光学性质，并通过光谱椭偏仪进行了测量。当热退火温度固定在300°C时，随着热退火时间的增加，SiO2

薄膜的折射率会降低，光学厚度也会减少，但各种量几乎保持不变。SiO薄膜的折射率随不同的热退火温度而

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变化。随着退火温度的升高，SiO薄膜的折射率逐渐降低。当选择的退火温度为500°C时，SiO薄膜的折射率

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达到最小值。可以发现，通过适当的退火程序可以改善SiO薄膜的光学性质。

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：离子束溅射；SiO薄膜；退火；折射率；光学厚度

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1.引言

SiO是一种低折射率和吸收材料，可以与在紫外（~200nm）到近红外（~3μm）区域工作的高折射率氧化物

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层涂层结合使用。通过调整沉积条件和氧气的部分，SiO的折射率可以很容易地匹配。由于其稳定性、非

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晶态（无晶界）、度、可调折射率和低颗粒污染，SiO有许多典型应用，包反射涂层、抗反射涂层、

全介质镜、分束器、带通滤波器和偏振器[1‑4]。为了获得高质量的SiO薄膜，已经尝试了多种不同的沉积方