CN119642725B 一种基于粒子群优化的epe胶膜p层厚度均匀性检测方法 （杭州新子光电科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN119642725B(45)授权公告日2025.07.04

(21)申请号202510169980.6

(22)申请日2025.02.17

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN119642725A

(43)申请公布日2025.03.18

(73)专利权人杭州新子光电科技有限公司

地址310000浙江省杭州市临安区玲珑街

道庆仙路128号

(72)发明人徐俊毛征宇曲炯明赵鑫炎

(74)专利代理机构北京奥肯律师事务所11881专利代理师雷蕾

(51)Int.CI.

G01B11/06(2006.01)

GO6T7/00(2017.01)

GO6T7/13(2017.01)

GO6T5/70(2024.01)

GO6N3/006(2023.01)

G01B9/02055(2022.01)

(56)对比文件

CN117128877A,2023.11.28

CN116644525A,2023.08.25审查员石隽菲

权利要求书3页说明书8页附图1页

(54)发明名称

一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法

(57)摘要

CN119642725B本发明公开了一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法，具体涉及EPE胶膜检测领域，包括搭建光学干涉检测系统，光学干涉检测系统包括激光光源、分光器、干涉探测器和数据采集模块；将EPE胶膜样品放置于光学干涉检测系统的测量区域中，紧接着调整激光光源、分光器的光路参数，通过干涉探测器捕获不同位置的干涉图像，干涉图像包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布，干涉图像用于反映EPE胶膜P层厚度的变化信息。通过光学干涉检测结合粒子群优化算法，建立了胶膜P层厚度分布模型，模型综合条纹位移、条纹间距和条纹强度分布的信

CN119642725B

检测环境搭建

检测环境搭建

数据采集

图像预处理

特征参数提取

厚度分布建模

粒子群优化

CN119642725B权利要求书1/3页

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1.一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法，其特征在于，包括：

首先搭建光学干涉检测系统，光学干涉检测系统包括激光光源、分光器、干涉探测器和数据采集模块；将EPE胶膜样品放置于光学干涉检测系统的测量区域中，紧接着调整激光光源、分光器的光路参数，通过干涉探测器捕获不同位置的干涉图像，干涉图像包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布，干涉图像用于反映EPE胶膜P层厚度的变化信息；数据采集模块用于记录干涉探测器所捕获的干涉图像；

对采集到的干涉图像进行数字化处理，以去除噪声干扰；紧接着通过图像处理算法提取条纹的特征参数；图像处理算法包括边缘检测算法；

根据光学干涉的物理特性，将干涉图像中提取的特征参数与胶膜P层厚度分布相互关联，并建立胶膜P层厚度分布模型；

通过粒子群优化算法迭代调整胶膜P层厚度分布模型的参数，优化胶膜P层厚度分布模型与实际干涉图像数据的拟合精度，并完成厚度均匀性的分析与验证；

初始化粒子群优化算法，设定粒子群规模，在参数空间中随机生成多个初始解，每个粒子对应一个厚度分布方案；同时初始化粒子的速度和位置，并定义适应度函数；

利用粒子群优化算法进行迭代计算，在每次迭代中，根据粒子群优化的规则更新粒子的速度和位置；

在每次迭代后，计算每个粒子的适应度值，适应度值用于反映胶膜P层厚度分布模型的预测结果与实际测量的干涉图像数据之间的误差；

在每轮迭代中，记录当前粒子个体的解，并不断更新全局的解，当适应度值小于预设阈值或其迭代次数达到上限时，停止优化，输出最终的胶膜P层厚度分布模型；

利用优化后的胶膜P层厚度分布模型的参数，生成EPE胶膜样品的厚度分布图，通过厚度分布图展示EPE胶膜样品不同区域的厚度变化情况；

基于EPE胶膜样品的厚度分布图与实际检测值进行对比，评估模型的拟合精度；

干涉图像的特征构成包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布；

条纹位移表达为：条纹中心在(x,y)平面中的偏移；

△x=Xcurent-Xreference,△y=Ycurrent-Yreference;

其中Xcurent,Ycurrent分别为当前条纹中心在x轴和y轴上的坐标；Xreference,Yreference分别为参考条纹中心在x