CN111789671B 用于冲洗消融中的温度控制的系统和方法 （韦伯斯特生物官能(以色列)有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111789671B(45)授权公告日2025.07.08

(21)申请号202010268335.7

(22)申请日2020.04.08

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111789671A

(43)申请公布日2020.10.20

(30)优先权数据

16/3778212019.04.08US

(51)Int.CI.

A61B18/12(2006.01)

A61B18/14(2006.01)

(56)对比文件

CN108567481A,2018.09.25审查员刘杨

(73)专利权人韦伯斯特生物官能(以色列)有限

公司

地址以色列约克尼姆

(72)发明人A.利夫希茨

(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001

专利代理师付曼姜冰

权利要求书2页说明书11页附图15页

(54)发明名称

用于冲洗消融中的温度控制的系统和方法

(57)摘要

CN111789671B本发明题为用于冲洗消融中的温度控制的系统和方法。一种导管消融系统包括：具有远侧端部的导管探头，该导管探头包括：温度传感器；多个冲洗孔穴；以及消融电极；射频(RF)加热控制器，该RF加热控制器耦合到导管探头并且被配置为向消融电极供应RF能量，以控制消融电极以目标功率发出热量；冲洗控制器，该冲洗控制器耦合到导管探头，并且被配置为以能够连续调节的冲洗流速通过导管探头供应冲洗流体以通过冲洗孔穴离开；以及具有处理器和存储器的操作控制台，该存储器存储指令，当该指令由处理器

CN111789671B

CN111789671B权利要求书1/2页

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1.一种导管消融系统，包括：

具有远侧端部的导管探头，所述导管探头包括：

温度传感器；

多个冲洗孔穴；以及

消融电极；

射频(RF)加热控制器，所述RF加热控制器耦合到所述导管探头并且被配置为向所述消融电极供应RF能量以控制所述消融电极以目标功率发出热量；

冲洗控制器，所述冲洗控制器耦合到所述导管探头并且被配置为以能够连续调节的冲洗流速通过所述导管探头供应冲洗流体以通过所述冲洗孔穴离开；以及

具有处理器和存储器的操作控制台，所述存储器存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器基于所述目标功率和目标平均温度来设定所述冲洗流速，

其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器在预消融时间期间基于所述目标功率和所述目标平均温度将所述冲洗流速设定为初始冲洗流速，

其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器在所述预消融时间之后的功率斜线上升时间段期间将所述冲洗流速设定为经调节的流速，基于以下项来设定所述经调节的流速：

所述目标功率；

所述目标平均温度；

所述初始冲洗流速；

由所述温度传感器测量的在所述预消融时间期间的温度斜率；

由所述温度传感器测量的在所述功率斜线上升时间期间的温度斜率；以及

由所述温度传感器测量的自消融开始以来测量的温度上升。

2.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器将所述冲洗流速设定为选自多于两种不同冲洗流速中的冲洗流速。

3.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器通过连续可变量来设定所述冲洗流速。

4.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器将所述冲洗流速设定为在连续范围内的值。

5.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器使用比例积分微分控制环路基于由所述温度传感器测量的当前温度和所述目标平均温度来设定所述冲洗流速。

6.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述目标平均温度相对于所述目标功率是恒定的。

3

CN111789671B权