CN114678319A 阵列基板母板、显示面板及其制作方法、显示装置 (京东方科技集团股份有限公司).docxVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.52万字
  • 约 27页
  • 2026-02-01 发布于重庆
  • 举报

CN114678319A 阵列基板母板、显示面板及其制作方法、显示装置 (京东方科技集团股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114678319A(43)申请公布日2022.06.28

(21)申请号202210302134.3

(22)申请日2022.03.24

(71)申请人京东方科技集团股份有限公司

地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人绵阳京东方光电科技有限公司

(72)发明人李晓杰刘攀余孙康

(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413

专利代理师何家鹏孟维娜

(51)Int.CI.

HO1L

HO1L

HO1L

HO1L

HO1L

21/683(2006.01)

21/67(2006.01)

21/78(2006.01)

27/32(2006.01)

21/77(2017.01)

权利要求书2页说明书8页附图4页

(54)发明名称

阵列基板母板、显示面板及其制作方法、显示装置

(57)摘要

CN114678319A本申请实施例提供了一种阵列基板母板、显示面板及其制作方法、显示装置,阵列基板母板包括基板、面板层及保护膜层,面板层位于基板的一侧,面板层包括多个面板区,以及位于面板区外围的间隔区,面板区的厚度大于间隔区的厚度以在间隔区处形成凹部;保护膜层位于面板层远离基板的一侧,保护膜层覆盖多个面板区及间隔区,保护膜层靠近面板层的一侧设有与凹部对应的凸起,凸起填充凹部。上述阵列基板母板中,凸起能够减小面板区与间隔区之间的厚度差,从而降低保护膜层与面板区及间隔区之间产生气

CN114678319A

31(3)

31(3)

21(2)

H3/21(2)

H1

22(2)

CN114678319A权利要求书1/2页

2

1.一种阵列基板母板,其特征在于,包括:

基板;

面板层,所述面板层位于所述基板的一侧,所述面板层包括多个面板区,以及位于面板区外围的间隔区,所述面板区的厚度大于所述间隔区的厚度以在所述间隔区处形成凹部;

保护膜层,所述保护膜层位于所述面板层远离所述基板的一侧,所述保护膜层覆盖所述多个面板区及所述间隔区,所述保护膜层靠近所述面板层的一侧设有与所述凹部对应的凸起,所述凸起填充所述凹部。

2.根据权利要求1所述的阵列基板母板,其特征在于,所述保护膜层包括基膜层及位于所述基膜层与所述面板层之间的第一粘接层,所述凸起设于所述第一粘接层靠近所述面板层的一侧。

3.根据权利要求1所述的阵列基板母板,其特征在于,所述凹部的深度为3μm至7μm。

4.根据权利要求1所述的阵列基板母板,其特征在于,所述保护膜层的厚度为25μm至35

μm。

5.根据权利要求1所述的阵列基板母板,其特征在于,所述面板区包括显示区和位于所述显示区一侧的弯折区,所述弯折区的厚度小于所述显示区的厚度,且所述弯折区的厚度大于所述间隔区的厚度;

所述凹部包括第一部分及第二部分,所述第一部分在所述基板上的投影覆盖所述间隔区在所述基板上的投影,所述第二部分在所述基板上的投影覆盖所述弯折区在所述基板上的投影。

6.根据权利要求5所述的阵列基板母板,其特征在于,所述第二部分的深度为1μm至3μ

m。

7.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括根据权利要求1至6任一项所述的阵列基板母板切割而成的阵列基板。

8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一基板;

在所述基板的一侧形成多个面板区,且在所述基板的一侧形成位于面板区外围的间隔区,所述面板区的厚度大于所述间隔区的厚度以在所述间隔区处形成凹部;

在所述多个面板区及所述间隔区远离所述基板的一侧覆盖保护膜层,所述保护膜层靠近所述面板层的一侧设有与所述凹部对应的凸起,所述凸起填充所述凹部;

沿所述间隔区的延伸方向切割所述基板及所述保护膜层,得到多个阵列基板;

剥除阵列基板上的所述保护膜层;

在所述阵列基板远离所述基板的一侧覆盖盖板层。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述基板的一侧形成多个面板区的步骤,包括:

在所述基板的一侧形成第一缓冲层;

在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成薄膜晶体管阵列层;

在所述薄膜晶体管阵列层远离所述基板的一侧形成第一平坦化层;

在所述平坦化层远离所述基板的一侧形成发光层;

在所述发光层远离所述基板的一侧覆盖封

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档