CN114415435A 多色电致变色器件及其制作方法、显示面板、显示装置 (北京信息科技大学).docxVIP

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CN114415435A 多色电致变色器件及其制作方法、显示面板、显示装置 (北京信息科技大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN114415435A

(43)申请公布日2022.04.29

(21)申请号202111520807.4

(22)申请日2021.12.13

(71)申请人北京信息科技大学

地址100192北京市海淀区清河小营东路

12号

(72)发明人张世玉郑陆一吝凯吕勇牛春晖刘洋

(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002

代理人朱芳

(51)Int.CI.

GO2F1/155(2006.01)

GO2F1/157(2006.01)

权利要求书2页说明书12页附图7页

(54)发明名称

多色电致变色器件及其制作方法、显示面板、显示装置

(57)摘要

CN114415435A本发明提供一种多色电致变色器件及其制作方法、显示面板、显示装置。本发明提供的谐振腔结构提升了电致变色器件的反射率和颜色显示范围,谐振腔结构与对电极的电致变色层形成互补型电致变色器件进一步拓展了颜色变化范围。基于本发明的多色电致变色器件的显示面板采用1个或2个子像素即可实现彩色显示,并

CN114415435A

CN114415435A权利要求书1/2页

2

1.一种多色电致变色器件,其特征在于,包括:

第一基板、第二基板、设置于第一基板和第二基板之间的电解质层,所述第一基板包括第一衬底、设置在所述第一衬底朝向所述电解质层侧的工作电极;所述第二基板包括第二衬底、设置在所述第二衬底朝向所述电解质层侧的对电极;

其中,所述工作电极为谐振腔结构,所述谐振腔结构包括依次层叠设置的金属反射层、介质层和宽带吸收层,通过调节所述介质层的厚度,所述谐振腔结构可实现不同反射型结构色调节,通过外加电场调制可实现多种颜色变化。

2.根据权利要求1所述的多色电致变色器件,其特征在于,

所述金属反射层的材料为非活泼金属;优选地,所述非活泼金属包括Au、Ag、Cu、Pt、Al或Ti,及多种金属形成的复合金属;所述金属反射层的厚度在20nm以上,优选50~500nm;

所述介质层的材料为无机电致变色材料和/或有机电致变色材料;所述介质层的厚度为10~3000nm,优选50~800nm;

所述宽带吸收层的材料包括过渡金属,FeSi?,非晶硅,或贵金属;所述过渡金属优选Cr、Ni、Ti,所述贵金属优选Au、Pt;所述宽带吸收层的厚度为5~50nm,优选5~15nm;

所述电解质层的材料包括液态电解质、凝胶电解质、固态电解质;所述液态电解质层厚度为0.01~3mm;所述凝胶电解质层厚度为0.1~500μm;所述固态电解质层厚度为10~500nm;

所述对电极包括依次层叠设置的透明导电电极和电致变色层;所述对电极中的电致变色层兼有离子存储功能;所述电致变色层的材料包括无机电致变色材料和/或有机电致变色材料;所述电致变色层的厚度为10~1000nm,优选50~800nm。

3.根据权利要求2所述的多色电致变色器件,其特征在于,所述金属反射层为网状镂空结构;所述金属反射层的材料为非活泼金属;优选地,所述非活泼金属包括Au、Ag、Cu、Pt、Al或Ti,及多种金属形成的复合金属;

和/或,所述金属反射层的厚度为20nm以上,优选50~500nm;所述网状镂空线宽为0.1~20μm,优选1~10μm。

4.根据权利要求2所述的多色电致变色器件,其特征在于,所述宽带吸收层为金属纳米孔结构层;所述金属为贵金属,优选Au、Pt;

和/或,所述金属纳米孔结构层的厚度为5~50nm,优选10~20nm;所述纳米孔的孔径为10~500nm,优选100~300nm。

5.根据权利要求2所述的多色电致变色器件,其特征在于,所述宽带吸收层为网状镂空结构;所述宽带吸收层材料为过渡金属,FeSi?,非晶硅,或贵金属;所述过渡金属优选Cr、Ni、Ti,所述贵金属优选Au、Pt;

和/或,所述宽带吸收层的厚度为5~50nm,优选5~15nm;所述网状镂空线宽为0.1~20μm,优选1~10μm。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的多色电致变色器件,其特征在于,所述第一衬底和第二衬底的材料包括玻璃、高分子塑料材料、金属箔。

7.权利要求1-6中任一项所述的多色电致变色器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

在第一衬底上依次形成金属反射层、介质层和宽带吸收层,得到第一基板;

CN114415435

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