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基于达曼光栅的并行激光直写光刻机：原理、技术与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的进程中，微纳加工领域作为众多前沿技术的基石，发挥着举足轻重的作用。从半导体集成电路制造到光子学器件研发，从生物医学工程到微机电系统，微纳加工技术的身影无处不在，其发展水平直接关系到这些领域的创新能力和产业竞争力。而激光直写技术，凭借其无需掩模、加工精度高、对环境要求相对较低等显著优势，已然成为微纳加工领域的核心技术之一。

自20世纪80年代以来，半导体集成电路微型化遵循摩尔定律迅猛发展，芯片上的晶体管数量每18-24个月便会翻倍，这对微纳加工技术提出了极为严苛的要求，促