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- 2026-02-10 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110893731A
(43)申请公布日2020.03.20
(21)申请号201911270180.4
B05D
5/12(2006.01)
(22)申请日2019.12.12
B05D
B44C
5/04(2006.01)
5/00(2006.01)
(71)申请人东莞市松烁硅胶科技有限公司
B05D
7/24(2006.01)
地址523000广东省东莞市塘厦镇田心社
CO9D
5/24(2006.01)
区科苑城科苑大道10号B栋
CO9D
127/18(2006.01)
(72)发明人李正富张立超颜少河
CO9D
175/04(2006.01)
(74)专利代理机构东莞技创百科知识产权代理事务所(普通合伙)44608
代理人邱凯
CO9D
CO9D
183/07(2006.01)7/61(2018.01)
(51)Int.CI.
B41M1/30(2006.01)
B41M1/12(2006.01)
B23K26/362(2014.01)
B41M5/00(2006.01)
B05D7/02(2006.01)
权利要求
书2页说明书7页
(54)发明名称
一种硅胶柯式烫画制作方法
(57)摘要
CN110893731A本发明提供了一种硅胶柯式烫画制作方法,包括如下步骤:步骤1)PET背面静电处理,步骤2)PET正面亚底处理,步骤3)亚底表面处理,步骤4)亚底表面刮涂环保气象硅胶层,步骤5)环保气象硅胶层表面涂布吸墨层,步骤6)分切成片材,步骤7)彩印图文,步骤8)彩印图文上丝印架桥剂,步骤9)丝印热熔胶膜,步骤10)在热熔胶膜上覆热熔胶,覆膜温度145℃~155℃;步骤11)激光切割定位孔,保证后续激光打标时的定位;步骤12)激光打标,根据产品不同形状打标;步骤13)排
CN110893731A
CN110893731A权利要求书1/2页
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1.一种硅胶柯式烫画制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1)PET背面静电处理:在PET背面采用烘烤涂布机涂一层防静电层,涂层厚度0.90um~1.1um,烘烤涂布速度是每分钟30m~50m,涂布烘烤温度115℃~125℃;
步骤2)PET正面亚底处理:在PET正面采用烘烤涂布机涂一层哑面层形成亚底,涂层厚度0.95um~1.1um,烘烤涂布速度是每分钟30m~50m,涂布烘烤温度95℃~105℃;
步骤3)亚底表面处理:在步骤2)之后在亚底上采用烘烤涂布机涂一层蜡层,涂层厚度0.95um~1.05um,烘烤参数涂布的速度是每分钟35m~45m米,涂布烘烤温度115℃~125℃;
步骤4)亚底表面刮涂环保气象硅胶层:在步骤3)之后,在155℃~165℃进行恒温处理3~5min,然后在带有熔融蜡的亚底表面采用烘烤涂布机涂一层环保气象硅胶层,涂层厚度1.95um~2.05um,烘烤参数涂布的速度是每分钟5m~15m,涂布烘烤温度155℃~165℃;
步骤5)环保气象硅胶层表面涂布吸墨层:在步骤4)后的环保气象硅胶层上采用烘烤涂布机涂一层吸墨层,涂层厚度0.95um~1.1um,烘烤参数涂布的速度是每分钟35m~50m,涂布烘烤温度95℃~105℃;
步骤6)分切成片材:在步骤5)之后对涂布好的卷材根据不同产品及规格分切成片材,便于上机彩印;
步骤7)彩印图文:在步骤6)之后采用专用6+1海德堡机透过吸墨层在环保气象硅胶层表面上进行彩印设定的图文;
步骤8)彩印图文上丝印架桥剂:在步骤7)之后在彩印图文上丝印架桥剂,以确保彩印的油墨能够透过吸墨层使得彩印的油墨与硅胶粘接牢固,并采用涂布烘烤机在115℃~125℃下烘烤20min;
步骤9)丝印热熔胶膜,具体步骤如下:
①丝印环保白色硅胶:在步骤8)之后在彩印图文上环保白色硅胶,丝印1~2次,并采用涂布烘烤机在115℃~125℃下烘烤20min;
②丝印架桥剂:在步骤9)处理后,再印刷架桥剂形成热熔胶膜;
步骤10)在热熔胶膜上覆热熔胶,覆膜温度145℃~155℃;
步骤11)激光切割定位孔,保证后续激光打标时的定位;
步骤12)激光打标,根据产品不同形状打标;
步骤13)排废,把图文以外的废料排掉,剩余的就是需要的图文。
2.根据权利要求1所述的硅胶
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