显影单元腔室内流场结构分析与优化.pdfVIP

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显影单元腔室内流场结构分析与优化

尹宁。胡延兵。卢继奎

(沈阳芯源微电子设备有限公司，沈阳Il0168)

摘要：匀胶显影设备中温湿度控制器(THS)为单元提供温度和湿度适宜的洁净空气，为保证单元内产生的颗粒不污

染晶片，在单元中将空气流动设计成DownFlow形式，这样能带走单元腔室中的灰尘颗粒，有利于防止晶片的颗粒污

染。由于显影单元的内部结构复杂，无法直接测量单元内部实际工作条件下的气流状态。文中采用数值模拟分析的方法

对显影单元内部进行流场仿真分析，根据分析结果对结构进行优化，以达到更理想的腔室内气体流动状态，可以节约修

改结构和复杂测试所消耗的时间和成本，缩短设计周期。

关键词：温湿度控制器：FILTER；CUP；DownFlow

中图分类号：TP391．7文献标志码：A文章编号：1002—2333(2014)07—0131—03

Analysisand0ptimizationoftheInnerFlowFieldStructureintheDeveloperUnit

YINNing，HUYanbing，LUJikui

(ShenyangKingsemiMicroele,’troni’sEquipmentC0．．Ltd．，Shenyangl10168，China)

Abstract：Thetempera‘tu,’e—humiditycontroller(THS)ofSpinCoatingDevelopingDeviceprovidescleanairwith

SUilableant】stabletempeT-atm-Pandhumiditvf0runits．TheflowfieldinunitiSdesignedtoDownFlowtotakeaway

parti(·lesantiensuringnoparticlecontaminationonwafers．Becauseofthecomplicatedinternalstructul’r．theworking

statusofai卜flowdistributioninsidetheunitcantbemeasureddirectlv．acomputationalfluiddynamicsreelhotliSused

t(Jstudvtheflow(】istributioninsidetheunit．Thestructule·isoptimize~ltoachievebetterairllowstate．savethetest

timean(1COSt．thusshortenthedesigncycle．

Keywords：FHS；FI1TER；(：UP；D0WNFl0W

0引言度等都随时间与空问发生随机的变化。单元腔室内的气

为保证单个品片在显影1艺时不受影响，必须控制流流动，属于湍流范畴。

·关键参数。包括：温度和时间，吸盘和清洗相关参数，2仿真分析

排风分布和大小等。。良好的排风可以使腔室形成正压，2．模型处理

防止外界的颗粒进入腔体，同时也可以将腔体内部产生对显影单元的结构进行合理简化建立仿真模型。流

的颗粒及时排出．避免品片污染。如果供风系统(THS)与场仿真的计算域是排风流动的空问，需要建立的模型是

排风系统丁作不匹配时，这样在腔体内形成乱流，从而将空气流动空间的模型并对其进行网格划分，处理模型时，

体内的颗粒卷起，最终颗粒落在晶片上，从而对晶片造将设备结构处理为边界．南结构组成的封闭间为计算

成污染。域模型