CN1512204A 一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法 （北京邮电大学）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局[51]Int.Cl?

G02B6/124

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请号7

[43]公开日2004年7月14日[11]公开号CN1512204A

[22]申请日2002.12.31[21]申请7

[71]申请人北京邮电大学

地址100876北京市海淀区西土城路10号

[72]发明人余重秀吴强王葵如王旭

[74]专利代理机构北京德琦知识产权代理有限公司

代理人王丽琴

权利要求书2页说明书6页附图4页

[54]发明名称一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法

[57]摘要

本发明公开了一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法，采用平行紫外光垂直照射振幅掩膜版，利用振幅掩膜版对入射平行紫外光进行振幅调制，通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光，该方法包括以下步骤：1)在紫外光照射振幅掩膜版之前，先使用紫外光扩束装置对紫外光进行扩束；2)扩束后的紫外光经过振幅掩膜版进行振幅调制后，使用紫外光聚焦装置压缩光斑，然后通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光。本发明的制作抽样光纤光栅的方法，能够制作任意函数抽样的光纤光栅，过程相对简单，很容易实现任意函数的抽样。且工艺简单易行，曝光精度要求低，易于形成批量生产，对这一器件的产业化具有重要意义。

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知识产权出版社出版7权利要求书第1/2页

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1、一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法，采用平行紫外光垂直照射振幅掩膜版，利用振幅掩膜版对入射平行紫外光进行振幅调制，通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1)在紫外光照射振幅掩膜版之前，先使用紫外光扩束装置对紫外光进行扩束；

2)扩束后的紫外光经过振幅掩膜版进行振幅调制后，使用紫外光聚焦装置压缩光斑，然后通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光。

2、如权利要求1所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，该方法进一步包括：根据要制作抽样光纤光栅不同的反射谱特性，制作相应透过率函数的振幅掩膜版；在制作不同函数抽样光纤光栅时，选择相应透过率函数的振幅掩膜版进行调制。

3、如权利要求1或2所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤2)进一步包括：扩束后的紫外光先使用光阑对其进行过滤，将其中间均匀部分照射到振幅掩膜版。

4、如权利要求1所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，对紫外光进行扩束的方法为：所述的紫外光扩束装置采用石英透镜或面镜组1,通过选择石英透镜或面镜组1中的不同焦距的透镜或面镜，和调整透镜或面镜间的距离，使紫外光经过石英透镜透射或面镜反射后形成平行扩束光。

5、如权利要求4所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，所述的采用石英透镜或面镜组1对紫外光进行扩束的过程为：先照射石英凹透镜或凸面镜，再照射石英凸透镜或凹面镜。

6、如权利要求1所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，压缩光斑的方法为：所述的紫外光聚焦装置采用石英透镜或面镜组2,通过选择石英透镜或面镜组2中的不同焦距的透镜或面镜，和调整透镜或面镜间的距离，经过石英透镜透射或面镜反射来压缩平行扩束光，形成平行照射光或渐细照射光，7权利要求书第2/2页

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得到压缩光斑。

7、如权利要求6所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，所述的采用石英透镜或面镜组2压缩光斑的过程为：先照射石英凸透镜或凹面镜，再照射石英凹透镜或凸面镜。

58、如权利要求1所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于，所述的扫描曝光的方法为：将光敏光纤每隔预定位移曝光一次。

9、如权利要求8所述的制作抽样光纤光栅的方法，其特征在于：所述的预

定位移根据所要制作的抽样光纤光栅的反射谱和时延曲线的要求设定。

10、如