CN1527116A 液晶显示器件及其制作方法 (株式会社半导体能源研究所).docxVIP

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CN1527116A 液晶显示器件及其制作方法 (株式会社半导体能源研究所).docx

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公开说明书

[21]申请号200410008004.0

[51]Int.Cl?

G02F1/136

H01L29/786

[43]公开日2004年9月8日[11]公开号CN1527116A

[22]申请日2004.3.5

[21]申请号200410008004.0

[30]优先权

[32]2003.3.7[33]JP[31]62306/2003

[71]申请人株式会社半导体能源研究所地址日本神奈川县厚木市

[72]发明人山崎舜平高山彻

[74]专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人王岳梁永

权利要求书4页说明书29页附图13页

[54]发明名称液晶显示器件及其制作方法

[57]摘要

在使用塑料衬底的液晶显示器件中,随着屏幕尺寸的不断加大,人们对实现高清晰度、高孔径效率、和高可靠性有了更强烈的需求。与此同时,对提高生产率以及降低成本也有了更高的要求。针对这样的要求,本发明提出了一个方案,即,在对面衬底(柔性衬底)上提供保护膜123,其中所述保护膜至少具有一层用以硅制成的靶通过高频率溅射法形成的氮化硅膜,并在对面衬底上涂画密封材料112,在真空下向对面衬底滴注液晶材料114后,粘贴其上提供有像素电极111以及圆柱状隔离物115的柔性衬底110。

知识产权出版社出版

200410008004.0权利要求书第1/4页

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1.一种液晶显示器件的制作方法,包括以下步骤:

在第一衬底和第二衬底的至少其中一个衬底上通过高频溅射法形成无机绝缘膜;

5在所述第一衬底上形成像素电极;

在所述第二衬底上形成对面电极;

在所述第一衬底上形成保持所述第一衬底和所述第二衬底之间间距的圆柱状隔离物;

在所述第二衬底上涂画并初步固定密封材料;

10在减压的情况下,向所述第二衬底上的被所述密封材料围住的区

域中滴注液晶材料;

在减压的情况下,对所述液晶材料进行加热除气;

在减压的情况下,粘合所述第一衬底和所述第二衬底;以及

固定所述密封材料。

152.一种液晶显示器件的制作方法,包括以下步骤:

在第一衬底和第二衬底的至少其中一个衬底上通过高频溅射法形

成无机绝缘膜;

在所述第一衬底上形成像素电极;

在所述第二衬底上形成对面电极;

20在所述第一衬底上形成保持所述第一衬底和所述第二衬底之间间距的圆柱状隔离物;

在所述第一衬底上涂画并初步固定密封材料;

在减压的情况下,向所述第一衬底上的被所述密封材料围住的区域中滴注液晶材料;

25在减压的情况下,对所述液晶材料进行加热除气;

在减压的情况下,粘合所述第一衬底和所述第二衬底;以及

固定所述密封材料。

3.根据权利要求1的液晶显示器件的制作方法,其中所述第一衬底和所述第二衬底中至少有一个是塑料衬底。

304.根据权利要求2的液晶显示器件的制作方法,其中所述第一衬底和所述第二衬底中至少有一个是塑料衬底。

5.根据权利要求1的液晶显示器件的制作方法,其中所述圆柱状

200410008004.0权利要求书第2/4页

3

的隔离物是以丙烯酸、聚酰亚胺、聚酰亚胺酰胺(polyimideamide)、

以及环氧中的至少其中之一为主要成分的有机树脂材料;或者氧化硅,氮化硅,氧化氮化硅中任一的一种材料;或用上述材料的叠层膜构成的无机材料。

56.根据权利要求2的液晶显示器件的制作方法,其中所述圆柱状的隔离物是以丙烯酸、聚酰亚胺、聚酰亚胺酰胺(polyimideamide)、以及环氧中的至少其中之一为主要成分的有机树脂材料,或者氧化硅,氮化硅,氧化氮化硅中任一的一种材料,或用上述材料的叠层膜构成的无机材料。

107.根据权利要求1的液晶显示器件的制作方法,其中所述无机绝缘膜是通过以硅为靶的高频溅射法制成的氮化硅膜。

8.根据权利要求2的液

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