清洁表面的制备及分子束外延.pptx

1清洁表面的制备及分子束外延

2清洁表面的获得 1.1超高真空的意义 1.2清洁表面的获得手段2.分子束外延简介3.外延生长 3.1外延生长的定义 3.2外延生长的动力学过程4.反射式高能电子衍射5.分子束外延应用实例目录

3超高真空(UltrahighVacuum)技术 －－获得清洁表面的前提为什么需要超高真空技术？由气体动力学方程，单位体积的气体分子与单位金属表面的碰撞频率n单位体积内气体分子个数ca平均速度而均方根速率为又有

4得到当P的单位取torr，T的单位取K，m由分子量M取代，有(cm-2s-1)N2分子量为28，室温293K，1torr