CN101849651A 一种低温真空含浸免泡大豆的制作方法 （浙江科技学院）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN101849651A

(43)申请公布日2010.10.06

(21)申请号201010179556.3

(22)申请日2010.05.21

(71)申请人浙江科技学院

地址310023浙江省杭州市西湖区留和路

318号

(72)发明人肖功年尤玉如金燕张彬沈权锋

(51)Int.CI.

A23L1/20(2006.01)

A23L1/29(2006.01)

权利要求书1页说明书2页

(54)发明名称

一种低温真空含浸免泡大豆的制作方法

(57)摘要

CN101849651A本发明公开了一种低温真空含浸免泡大豆的制作方法，包括：大豆的选择，含浸水的配置，低温真空含浸技术，无菌包装等步骤。大豆选取优质非转基因，并且用x射线辐照控制菌落在10000以内。含浸水主要含，乳酸链球菌素，多聚赖氨酸，纳他霉素等生物防腐剂控制细菌。真空低温含浸控制在-0.92MPa以下，温度在45℃左右，此方法有利于水的渗透，减少浸泡时间。运用此方法生产

CN101849651A

CN101849651A权利