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- 2026-03-05 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN106783566A
(43)申请公布日2017.05.31
(21)申请号201611072571.1
(22)申请日2016.11.29
(71)申请人东莞市广信知识产权服务有限公司地址523000广东省东莞市松山湖高新技
术产业开发区新竹路4号新竹苑13栋6
楼607室
申请人东莞华南设计创新院
(72)发明人刘丽蓉王勇丁超
(74)专利代理机构广东莞信律师事务所44332代理人曾秋梅
(51)Int.CI.
HO1L21/28(2006.01)
HO1L21/285(2006.01)
权利要求书1页说明书2页附图1页
(54)发明名称
一种Ge的N型欧姆接触制作方法
CN1067835
CN106783566A
(57)摘要
本发明公布了一种锗基N型欧姆接触源漏电极的制作方法,该方法的步骤如下:在重掺杂的N型锗半导体上定义出欧姆接触区与非欧姆接触区;在欧姆接触区蒸发金属镍锡金属,并进行剥离工艺;然后进行合金工艺,使得镍锡与N型锗半导体形成半金属化合物;最后制作源漏电极金属镍/铝金属。
光刻定义出源凝区域
在源涵区域沉积镍
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