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- 2026-03-06 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN106449876A
(43)申请公布日2017.02.22
(21)申请号201610902698.5
(22)申请日2016.10.17
(71)申请人无锡尚德太阳能电力有限公司
地址214028江苏省无锡市新吴区新华路9
号
(72)发明人陈丽萍周杰严婷婷汪涛陆红艳陈如龙
(74)专利代理机构无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104
代理人曹祖良刘海
(51)Int.CI.
HO1L31/18(2006.01)
HO1L31/0224(2006.01)
权利要求书2页说明书4页附图1页
(54)发明名称
选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法
(57)摘要
CN106449876A本发明涉及一种选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是,包括以下步骤:(1)硅片去损伤层并制绒、清洗;(2)扩散形成pn结,去除扩散后硅片正面磷硅玻璃和背面pn结;(3)在硅片的背面沉积氧化铝/氮化硅叠层钝化薄膜,在硅片的正面沉积氮化硅减反射薄膜;(4)使用激光器在硅片背表面打线,得到打线槽;(5)正面涂布磷源;(6)正面激光掺杂,得到激光掺杂的主栅线和副栅线;(7)光诱导电镀镍/铜/银电极:将电池背面与外置电源的阴极连接,在电池正面和背面同时电镀,依次电镀镍/铜/银三种金属;(8)将电镀后的电池进行退火。本发明解决了丝网印刷双面
CN106449876A
CN106449876A权利要求书1/2页
2
1.一种选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是,包括以下步骤:
(1)硅片去损伤层并制绒、清洗:将硅片去损伤层后在加热至80~85℃的碱液和添加剂体系中制绒,在硅片的正面形成绒面;然后在酸性溶液中化学清洗,去除表面杂质;
(2)扩散形成pn结:对硅片进行高温磷扩散形成pn结,扩散温度为850~880℃,扩散时间为1.5~2小时,扩散后表面方块电阻为90~120Ω/□;
(3)刻蚀:去除扩散后硅片正面磷硅玻璃和背面pn结,同时实现背面化学抛光;
(4)镀膜:在硅片的背面沉积氧化铝/氮化硅叠层钝化薄膜,在硅片的正面沉积氮化硅减反射薄膜;
(5)背面激光开窗:使用激光器在硅片背表面打线,使背面的氧化铝/氮化硅叠层钝化薄膜从硅片背面剥离,得到打线槽;
(6)正面涂布磷源:在硅片正面喷涂或者甩涂浓度为3~8%的磷酸溶液,作为激光掺杂的磷源;
(7)正面激光掺杂:使用激光对硅片正面进行加热,使硅片加热至熔融状态,在激光对硅片表面加热开槽的同时,磷酸内的磷原子融入熔融状态的硅中;当激光的光斑从熔融的区域移开后,此区域开始冷却并再结晶,融入的磷原子与硅形成合金,形成相应的N++层,得到激光掺杂的主栅线和副栅线;
(8)光诱导电镀镍/铜/银电极:将电池背面与外置电源的阴极连接,在电池正面和背面同时电镀,依次电镀镍/铜/银三种金属,电镀完成后正面栅线宽度30~35μm,高度13~15μm,背面栅线宽度50~65μm,高度25~32μm;
(9)退火:将电镀后的电池在氮气氛围中退火,退火温度350~450℃,退火时间1~3分钟。
2.如权利要求1所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述硅片为p型硅片。
3.如权利要求2所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述p型硅片的电阻率为1~3Ω·cm。
4.如权利要求1所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述步骤(1)中,碱液采用氢氧化钠溶液或氢氧化钾溶液,浓度为2.5%~4%,添加剂为醇类有机物,添加剂浓度为1%~2%。
5.如权利要求1所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述步骤(1)中,硅片的单片制绒减薄量为0.45~0.65g,制绒后硅基底表面反射率为10~12%。
6.如权利要求1所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述步骤(1)中绒面由若干金字塔形状的凸起组成,金字塔形状凸起的底部宽度为1~3
μm。
7.如权利要求1所述的选择性发射极双面PERC晶体硅太阳能电池的制作方法,其特征是:所述硅片背面氧化铝
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