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CN113138532B 抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法 （三星Sdi株式会社）.docxVIP

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  • 2026-03-08 发布于山西
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CN113138532B 抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法 （三星Sdi株式会社）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利

    (10)授权公告号CN113138532B

    (45)授权公告日2025.05.13

    (21)申请号202110056902.7

    (22)申请日2021.01.15

    (65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN113138532A

    (43)申请公布日2021.07.20

    (30)优先权数据

    10-2020-00067702020.01.17KR

    (73)专利权人三星SDI株式会社

    地址韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号

    (72)发明人崔有廷权纯亨朴贤白载烈

    金旼秀裵信孝宋大锡

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