CN102227703A 电容触摸屏及用于制作触摸屏的策略性几何形状隔离图案化方法 （Uico公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN102227703A

(43)申请公布日2011.10.26

(21)申请号200980147743.9(22)申请日

(21)申请号200980147743.9

(22)申请日2009.11.06

(30)优先权数据

代理人江耀纯

61/112,0642008.11.06US

(85)PCT申请进入国家阶段日

2011.05.31

(86)PCT申请的申请数据

PCT/US2009/0635652009.11.06

(87)PCT申请的公布数据

(51)Int.CI.

GO6FGO6F

3/041(2006.01)

3/044(2006.01)

WO2010/054204EN2010.05.14

(71)申请人UICO公司

地址美国伊利诺斯州格伦代尔高地华尔街

175号

(72)发明人巴哈尔·瓦迪亚

权利要求书2页说明书6页附图4页

(54)发明名称

电容触摸屏及用于制作触摸屏的策略性几何形状隔离图案化方法

(57)摘要

CN102227703A使用一种被称为策略性几何形状隔离(SGI)的新图案化技术，以使用激光烧蚀使导电薄膜结构图案化。除了ITO薄膜之外，也可使用SGI以使服从用激光或其它定向的能量束烧蚀的任何其它导电薄膜图案化。代替于烧蚀ITO的较大区域以形成MIPC中的下伏层可通过其投影电容场的ITO空隙，SGI图案化技术涉及将原本被烧蚀的区域保留在适当位置，但将其电隔离。可用烧蚀路径的单个通过来完成这些区域的电隔离。在使用中，所述电隔离区域以类似于所述ITO空隙/烧蚀区域的方式运转，从而允许下伏电容场通过其进行投

CN102227703A

激光

激光激光束

导电区(氧化铟锡)

非导电区(仅为PET或PEN)

烧蚀路径一

CN102227703A权利要求书1/2页

2

1.一种多层交叉投影的电容触摸屏，其包括：

实质上透明的第一层，其包括呈现一对相对表面的介电薄膜，其中所述薄膜的所述相对表面中的至少一者涂有导电材料，所述导电材料界定多个电互连区和与所述电互连区邻近且交替散布的多个电隔离区；以及

实质上透明的第二层，其包括呈现一对相对表面的介电薄膜，其中所述薄膜的所述相对表面中的至少一者涂有导电材料，所述导电材料界定多个电互连区和与所述电互连区邻近且交替散布的多个电隔离区，所述第二层叠加在所述第一层上，使得用所述第二层的电隔离区覆盖所述第一层的所述电互连区中的每一者，且用所述第二层的电互连区覆盖所述第一层的所述电隔离区中的每一者。

2.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第一层的所述导电材料及所述第二层的所述导电材料实质上包括氧化铟锡。

3.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第一层的所述介电薄膜及所述第二层的所述介电薄膜实质上包括聚对苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯。

4.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第一层的所述电互连区与所述第一层的所述电隔离区分离100μm或更少。

5.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第一层的所述电互连区与所述第一层的所述电隔离区分离30μm或更少。

6.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第二层的所述电互连区与所述第二层的所述电隔离区分离100μm或更少。

7.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第二层的所述电互连区与所述第二层的所述电隔离区分离30μm或更少。

8.根据权利要求1所述的触摸屏，其中所述第一层的所述电隔离区及所述第二层的所述电隔离区的形状实质上为正方形。

9.一种制作多层交叉投影的电容触摸屏的方法，其包括：

通过使用定向的能量束烧蚀装置在涂在介电材料上的导电材料中界定多个电互连区和与所述电互连区邻近且交替散布的多个电隔离区，来生产第一实质上透明的屏幕层；

通过使用所述定向的能量束烧蚀装置在涂在介电材料上的导电材料中界定多个电互连区和与所述电互连区邻近且交替散布的多个电隔离区，来生产第二实质上透明的屏幕层；以及

在所述第一层上叠加所述第二层，使得用所述第二层的电隔离区覆盖所述第一层的所述电互连区中的每一者，且用所述第二层的电互连区覆盖所述第一层的所述电隔离区中的每一者。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述定向的能量束烧蚀装置为激光器。

11.根据权利要