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- 2026-03-15 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN103376484A
(43)申请公布日2013.10.30
(21)申请号201210105946.5
(22)申请日2012.04.12
(71)申请人福州高意光学有限公司
地址350001福建省福州市晋安区福新东路
253号中航技工业小区
(72)发明人林磊黄富泉周孝莲代会娜李广伟张新汉
(74)专利代理机构福建炼海律师事务所35215代理人许育辉
(51)Int.CI.
GO2BGO2BGO3H
5/18(2006.01)
5/32(2006.01)
1/18(2006.01)
权利要求书1页说明书3页附图2页
(54)发明名称
一种采用Lift-Off原理制作光栅的方法
(57)摘要
CN103376484A本发明涉及光栅制作技术领域,公开了一种采用Lift-Off原理制作光栅的方法,首先在一光栅基片上制作光刻胶全息光栅;然后采用镀膜沉积技术在光刻胶全息光栅的光栅面上镀介质膜层;最后洗除光刻胶层,留下沉积在光栅基片上的介质膜层,构成介质膜光栅;在镀膜沉积过程中,介质膜料垂直沉积于光刻胶全息光栅的光栅面上,且介质膜层厚度低于光刻胶全息光栅的光刻胶槽深。
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