CN104635299A 一种平面光波导的湿法刻蚀方法及制作方法 （四川飞阳科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN104635299A

(43)申请公布日2015.05.20

(21)申请号201510093910.3

(22)申请日2015.03.03

(71)申请人四川飞阳科技有限公司

地址610209四川省成都市双流县西南航空

港经济开发区长城路一段185号

(72)发明人向舟翊李朝阳

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227

代理人王宝筠

(51)Int.CI.

G02BC23F

6/126(2006.01)1/02(2006.01)

权利要求书1页说明书5页附图5页

(54)发明名称

一种平面光波导的湿法刻蚀方法及制作方法

(57)摘要

CN104635296A本申请公开了一种平面光波导的湿法刻蚀方法，用于对衬底表面的金属层进行快速刻蚀，所述湿法刻蚀方法包括：在金属层表面形成图案化的光刻胶层，作为第一掩膜层；将所述衬底具有金属的一面向上水平放置并浸没于刻蚀液中，对所述金属层进行刻蚀，形成图案化的金属层，在刻蚀过程中，使得所述刻蚀液与所述衬底相对运动；刻蚀完成后去除所述第一掩膜层。采用所述湿法刻蚀方法对所述衬底进行刻蚀，成本