CN104647934A 一种光学防伪元件及其制作方法 （中钞特种防伪科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN104647934A布日2015.05.27

(21)申请号201310594525.8

(22)申请日2013.11.21

(71)申请人中钞特种防伪科技有限公司

地址100070北京市丰台区科学城星火路6

号

申请人中国印钞造币总公司

(72)发明人胡春华吴远启张宝利张昊宇周赟蔡翔

(74)专利代理机构北京润平知识产权代理有限公司11283

代理人陈潇潇肖冰滨

(51)Int.CI.

B42D25/29(2014.01)

B42D25/30(2014.01)

GO2B5/18(2006.01)

权利要求书3页说明书7页附图3页

(54)发明名称

一种光学防伪元件及其制作方法

(57)摘要

本发明公开了一种光学防伪元件及其制作方法。该制作方法包括：在支撑层上形成起伏结构层，起伏结构层包括不相邻的第一区域和第二区域、包围第一区域并且与第一区域邻接的第三区域、以及包围第二区域并且与第二区域邻接的第四区域；在起伏结构层上以均匀表面密度蒸镀金属反射层；在金属反射层上对应第一区域和第二区域分别套印正性感光胶和负性感光胶，正性感光胶的边界