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- 2026-03-26 发布于上海
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图案极化铌酸锂薄膜:制备工艺、非线性光学原理及前沿应用探索
一、引言
1.1研究背景与意义
随着光电子技术的飞速发展,对高性能光电子材料和器件的需求日益迫切。图案极化铌酸锂薄膜作为一种新型的光电子材料,因其独特的结构和优异的性能,在光通信、量子光学、集成光学等领域展现出巨大的应用潜力,成为了当前光电子领域的研究热点之一。
铌酸锂(LiNbO?)晶体是一种重要的多功能材料,具有压电、铁电、热释电、电光、声光、非线性光学等多种优异性能。其居里温度高达1210°C,自发极化强度为0.70C/m2,拥有较大的电光系数和非线性光学系数,在光电器件应用中表现出色。然而,传统的体块铌酸锂晶体在集
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