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主讲人：任昭《智能制造基础》X射线检测技术

CATALOG目录X射线检测技术的基本概念01X射线检测技术的基本原理02X射线检测技术的特点03X射线检测技术的应用04

X射线检测技术的基本概念01当把一块导体置于交变磁场之中，在导体中就有感应电流存在，即产生X射线。由于导体自身各种因素（如电导率、磁导率、形状、尺寸和缺陷等）的变化，会导致X射线的变化，利用这种现象判定导体性质、状态的检测方法，称为X射线检测技术。X射线检测装备

X射线检测技术的基本原理02射线的衰减：当X射线穿透物质时，由于射线与物质的相互作用，将产生一系列极为复杂的物理过程，其结果使射线被吸收和散射而失去一部分能量，强度相应减弱。X射线检测依据工件与内部缺欠对射线能量衰减程度的差异，使射线透过工件后产生强度不同的投影，经暗室处理或通过X射线图像增强器等探测器形成影像，再对照标准评定缺欠性质与底片级别，其图像质量主要取决于分辨率和对比度。

X射线检测技术的特点03成像系统的分辨率(清晰度)决定于X射线源焦斑的大小、X光路的几何放大率和探测器像素大小。X光路的几何放大率可达到10~2500倍，探测器像素可小到几十微米。成像系统的对比度决定于图像探测器的探测效率、电子学系统的信噪比和合适的X射线能量。目前一般的X射线