CN118039497B 半导体器件的形成方法及半导体器件 (武汉新芯集成电路股份有限公司).docxVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.69万字
  • 约 31页
  • 2026-04-10 发布于山西
  • 举报

CN118039497B 半导体器件的形成方法及半导体器件 (武汉新芯集成电路股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN118039497B

(45)授权公告日2025.06.27

(21)申请号202211378614.4

(22)申请日2022.11.04

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN118039497A

(43)申请公布日2024.05.14

(73)专利权人武汉新芯集成电路股份有限公司

地址430205湖北省武汉市东湖开发区高

新四路18号

(72)发明人周玉胡胜孙鹏

(74)专利代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237

专利代理师郑星

(51)Int.Cl

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档