ASTM D6071-22 中文版 半导体用水石墨炉原子吸收法测定痕量元素的标准方法.docxVIP

ASTMD6071-22中文版半导体用水石墨炉原子吸收法测定痕量元素的标准方法

1.前言

本标准方法参照ASTMD6071-22英文版制定，适用于半导体制造过程中所用高纯度水（以下简称“半导体用水”）中痕量元素的测定，采用石墨炉原子吸收分光光度法，可准确测定半导体用水中钠及其他常见痕量杂质元素（如钙、铁、硅等）的含量，检测范围为1μg/L至40μg/L，若经过方法验证，可适当扩展检测范围。半导体用水作为半导体制造过程中与晶圆表面直接接触的关键原料，其痕量杂质含量直接影响集成电路的集成度、性能及成品良率，尤其是随着半导体器件不断微型化，对水中痕量元素的控制要求达到ppt级甚至亚ppt级，本标准方法通过严格控制实验条件、优化检测流程，确保检测结果的准确性、精密度和可靠性，为半导体用水的质量控制提供标准化依据。本标准遵循国际标准化组织认可的标准化原则，与ASTMD6071-22英文版技术要求保持一致，同时结合半导体行业的实际应用需求，补充了半导体用水的特定要求，适用于半导体生产企业、检测机构及相关科研单位的日常检测与质量监控工作。

2.范围

2.1本标准方法规定了采用石墨炉原子吸收分光光度法测定半导体用水中痕量元素的原理、试剂与材料、仪器与设备、样品采集与保存、样品预处理、分析步骤、结果计算与表示、精密度与偏差、质量保证与质量控制及安全注意事项等内容。

2.2本标准方