CN119873846A 一种合成二氧化硅中氯离子杂质的深度去除方法 .pdfVIP

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  • 2026-05-04 发布于重庆
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CN119873846A 一种合成二氧化硅中氯离子杂质的深度去除方法 .pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119873846A

(43)申请公布日2025.04.25

(21)申请号202510260950.6

(22)申请日2025.03.06

(71)申请人浙江大学杭州国际科创中心

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