薄膜的屋里气相沉积.pptVIP

薄膜的屋里气相沉积演示文稿第1页，共25页。

（优选）薄膜的屋里气相沉积第2页，共25页。

溅射镀膜的特点（1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实现溅射（2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好（3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好（4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获得厚度均匀的薄膜第3页，共25页。

一、辉光放电的物理基础靶材是需要被溅射的物质，作为

阴极，相对作为阳极并接地的真空室处于一定的负电位辉光放电过程中，将产生Ar离子，阴极材料原子，二次电子，光子等第4页，共25页。

直流溅射趁机装置的制图第5页，共25页。

4.2物质的溅射现象合金的溅射和沉积：溅射法的优点所制备的薄膜的化学成分与靶材基本一致。自动补偿效应：溅射产额高的物质已经贫化，溅射速率下降，而溅射产额低的物质得到富集，溅射速率上升。第6页，共25页。

一、直流溅射装置及特性溅射气压1.3-13Pa，太低和太高都不利于薄膜的形成。阴-阳极距离适中，大约为阴极暗区的2倍溅射电压1-5KV。靶材必须为金属。为保证薄膜的均匀性，阴极平面面积大约为衬底的2倍。第7页，共25页。

一、直流溅射装置及特性工作原理：当加上直流电压后，辉光放电开始，正离子打击靶面，靶材表面的中性原子溅射出，这些原子沉积在衬