CN119644679A 用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法 （科磊股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119644679A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202510014143.6

(22)申请日2022.04.20

(30)优先权数据

17/235,5732021.04.20US

(62)分案原申请数据

202280017625.12022.04.20

(71)申请人科磊股份有限公司地址美国加利福尼亚州

(72)发明人S·希尔G·德尔加多

(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287

专利代理师刘丽楠

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

B08B7/00(2006.01)

G01N21/15(2006.01)

G01N21/88(2006.01)

G01N21/95(2006.01)

G03F1/84(2012.01)

G01N21/956(2006.01)

权利要求书2页说明书10页附图5页

(54)发明名称

用于投影成像系统中的临场式光化学清洁

的光的光学路径耦合的系统及方法

(57)摘要

CN119644679A本申请实施例涉及用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法。本发明公开用于清洁覆盖检验系统的光学表面的系统。特定来说，公开