CN119644682A 一种曝光图形的平滑处理方法 （源卓微纳科技(苏州)股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119644682A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202510177335.9

(22)申请日2025.02.18

(71)申请人源卓微纳科技（苏州）股份有限公司

地址215000江苏省苏州市工业园区汀兰

巷192号C5幢102室

(72)发明人高安王承茂汪晶黄小刚张雷

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G06T5/70(2024.01)

权利要求书2页说明书6页附图5页

(54)发明名称

一种曝光图形的平滑处理方法

(57)摘要

CN119644682A一种曝光图形的平滑处理方法，设定短边阈值Leps、OBB包围盒短边阈值Oeps；根据初始曝光图形的信息以及设定的短边阈值Leps获得连续短边集合；对每个连续短边集合进行拟合获得对应于连续短边集合的OBB包围盒，将OBB包围盒的短边长度值与OBB包围盒短边阈值Oeps进行比较，筛选出OBB包围盒短边长度值小于等于包围盒短边阈值Oeps的包围盒，作为继续平滑处理的待平滑处理OBB包围盒；获得待平滑处理OBB包围盒主轴两端的顶点，连接待平滑处理OBB包围盒主轴两端的顶点，主轴两端顶点连接线构成平滑图形轮廓线，采用平滑图形轮廓线替换连续短边集合内的连续短边。剔除