CN119644695A 一种光学相干层析成像光路结构及其色散补偿方法 (上海超光微医疗科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-06-04 发布于山西
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CN119644695A 一种光学相干层析成像光路结构及其色散补偿方法 (上海超光微医疗科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119644695A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202311199883.9

(22)申请日2023.09.15

(71)申请人上海超光微医疗科技有限公司

地址200000上海市闵行区紫星路588号2

幢12层03室

(72)发明人陈红芩曹佳炜符钰棋

(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332

专利代理师李彩玲

(51)Int.Cl.

G03H1/00(2006.01)

G03H1/04(2006.01)

G02B7/198(2021.01)

G02B26/10(2006.01)

G02B27/00(2006.01)

G01N21/01(2006.01)

G01N21/45(2006.01)

G01N21/55(2014.01)

权利要求书2页说明书11页附图6页

(54)发明名称

一种光学相干层析成像光路结构及其色散

补偿方法

(57)摘要

CN119644695A本发明公开了一种光学相干层析成像光路结构及其色散补偿方法。光路结构包括:相干光源、2*2光纤耦合器、参考光路、样品光路、等波数光谱仪和上位机;相干光源发出的低相干宽带光经2*2光纤耦合器后分为参考光和样品光,并且两者依次在参考光路和

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