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2026年(制药类)药物合成试题及答案

一、单项选择题（每题1分，共20分。每题只有一个正确答案，请将正确选项字母填入括号内）

1.在下列还原剂中，对α,β-不饱和酮进行选择性1,4-还原时最常用的是（）

A.NaBH?

B.LiAlH?

C.L-Selectride

D.Zn(BH?)?

答案：C

2.下列保护基中，对叔丁基二甲基硅基（TBS）醚进行脱保护最温和的条件是（）

A.TBAF,THF,0°C

B.HF·Py,CH?Cl?,rt

C.AcOH–H?O(9:1),60°C

D.K?CO?,MeOH,rt

答案：A

3.在Vilsmeier–Haack反应中，真正起亲电进攻作用的活性物种是（）

A.POCl?

B.N,N-二甲基甲酰胺

C.氯亚胺离子

D.二甲胺

答案：C

4.下列催化剂对Suzuki偶联反应活性最高的是（）

A.Pd(PPh?)?

B.Pd(OAc)?

C.PdCl?(dppf)

D.Pd/C

答案：C

5.在Sharpless不对称环氧化中，催化循环必需的钛源是（）

A.Ti(OiPr)?

B.TiCl?

C.Ti(OPh)?

D.TiO?

答案：A

6.下列离去基团离去能力最强的是（）

A.Cl?

B.Br?

C.I?

D.CF?SO??

答案：D

7.下列反应中，属于自由