CN119472163A 一种提高光刻工艺窗口的方法 （格科半导体(上海)有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119472163A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411926387.3

(22)申请日2024.12.24

(71)申请人格科半导体（上海）有限公司

地址201306上海市浦东新区自由贸易试

验区临港新片区新元南路198号

(72)发明人王晓龙张楠楠

(74)专利代理机构上海元好知识产权代理有限

公司31323

专利代理师徐雯琼张双红

(51)Int.Cl.

G03F7/00(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图2页

(54)发明名称

一种提高光刻工艺窗口的方