CN119694921B 晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备 （北京特思迪半导体设备有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN119694921B

(45)授权公告日2025.05.20

(21)申请号202510208526.7

(22)申请日2025.02.25

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN119694921A

(43)申请公布日2025.03.25

(73)专利权人北京特思迪半导体设备有限公司

地址101300北京市顺义区杜杨北街3号院

6号楼（顺创）

(72)发明人周惠言蒋继乐

(51)Int.Cl.

H01L21/66(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

(56)对比文件

CN101161856A,2008.04.16

CN116276407A,2023.06.23

审查员刘婧

权利要求书2页说明书10页附图1页

(54)发明名称

晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备

(57)摘要

本发明提供一种晶圆膜厚测量不确定度的确定方法及设备。应用于高精度测量技术领域。该方法包括：获取晶圆膜厚测量装置对晶圆膜厚测量的不确定度分量；不确定度分量包括波长测量不确定度u(2)、折射率测量不确定度u(mnz)、折射角测量不确定度、电压测量不确定度u(v)、标准晶圆的标定系数偏差引起的不确定度u(k)；利用不确定度u(2)、u(mnz)、、

CN