CN119816564A 电极层形成性固化性有机聚硅氧烷组合物、具备电极层的层叠体、其用途及其制造方法 (陶氏东丽株式会社).docxVIP

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  • 2026-06-30 发布于山西
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CN119816564A 电极层形成性固化性有机聚硅氧烷组合物、具备电极层的层叠体、其用途及其制造方法 (陶氏东丽株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119816564A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202380063660.1

(22)申请日2023.09.26

(30)优先权数据

2022-1569042022.09.29JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.04

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0350452023.09.26

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/071152JA2024.04.04

(71)申请人陶氏东丽株式会社地址日本东京都

(72)发明人福井弘

(74)专利代理机构北京泛华伟业知识产权代理

有限公司11280

专利代理师徐舒

(51)Int.Cl.

C08L83/07(2006.01)

B32B27/00(2006.01)

B32B27/18(2006.01)

C08K3/06(2006.01)

C08L83/05(2006.01)

权利要求书2页说明书25页

(54)发明名称

电极层形成性固化性有机聚硅氧烷组合物、

具备电极层的层叠体、其用途及其制造方法

(57)摘要

CN119816564A本发明提供一种电极层形成性组合物、层叠体、其用途以及制造方法,该电极层形成性组合物能够用于实质上

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