半导体工厂超纯水水质异常应急处置与溯源排查 SOP.docxVIP

半导体工厂超纯水水质异常应急处置与溯源排查SOP

前言

超纯水（UPW）是半导体晶圆制造、薄膜、刻蚀、扩散、CMP、清洗等全工序的核心工艺介质，水质稳定性直接决定晶圆良率、器件电学性能与批次生产合规性。半导体先进制程（28nm～1nmFinFET/GAA）对超纯水杂质容忍度达到ppt/ppq级别，微小水质波动即可引发颗粒缺陷、金属沾污、TOC有机残留、水斑腐蚀、介质层剥离等批量不良，造成重大量产损失。

超纯水水质异常具备隐蔽性强、传播速度快、影响面广、滞后性突出、溯源难度高的典型特征，常规事后整改模式无法满足先进晶圆厂量产管控需求。本SOP严格对标SEMIF63-24、SEMIF64-2024、SEMIF57-2023、SEMIF104-2022国际标准，结合12英寸晶圆厂量产应急管控经验，建立“预警识别—分级响应—快速隔离—全域溯源—闭环处置—复盘预防”的标准化作业流程，统一异常判定标准、排查逻辑、应急动作与归档规范，适用于超纯水制备、储水、输送、终端用水全链路异常处置，可直接作为产线运维、品质管控、设备应急、审厂合规的官方作业文件。

0总则

0.1编制目的

规范半导体工厂超纯水水质各类异常的识别判定、应急响应、现场隔离、逐级溯源、整改修复与复盘预防流程，杜绝水质异常扩散引发的批量晶圆不良与产线停机事故，建立可快速落地、可审计、可溯源、可预防的超纯水水质风险管控