ISO 23131-3：2026 椭偏测量 第3部分透明单层模型标准立项发展报告.docx

椭偏测量第3部分：透明单层模型标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:Ellipsometry—Part3:TransparentSingleLayerModel

摘要

椭偏测量技术作为纳米薄膜表征领域的核心计量手段，在半导体制造、光学镀膜、新能源材料及生物传感器等高科技产业中具有不可替代的地位。随着先进制程节点不断下探至3纳米以下，薄膜厚度测量的精度要求已从纳米级向亚原子级迈进，对椭偏测量数据的建模与解析提出了更为严苛的标准化需求。在此背景下，国际标准化组织（ISO）于2026年1月30日正式发布了ISO23131-3:2026《椭偏测量第3部分：透明单层模型》标准。该标准作为ISO23131系列标准的第三部分，系统规定了透明单层薄膜椭偏测量数据解析的物理模型、数学算法、参数拟合策略及结果验证方法。本报告旨在全面阐述该标准的立项背景、技术内容、核心创新点及其产业应用价值，分析其对我国椭偏测量技术标准化工作的启示，并为相关领域科研人员与产业技术人员提供技术指导和参考依据。报告指出，该标准的发布填补了椭偏测量领域透明单层膜系专用建模标准的空白，对推动纳米薄膜计量技术的规范化和国际化发展具有重要意义。

关键词：椭偏测量；透明单层模型；光学常数；薄膜厚度；国际标准；纳米计量；光谱椭偏

Keywords:Ellips