集成电路制造技术与实践 课件 第9、10章 光刻工艺、刻蚀工艺.pptx

第9章光刻工艺;

9.1光刻工艺的三要素;

1.光刻机

光刻机用于提供光刻工艺所必需的曝光光源，实现图形对准和曝光，是集成电路制造中最重要和最昂贵的设备。

光刻机的重要性体现在三个方面：一是光刻机决定了器件和集成电路的最小图形尺寸，即特征尺寸(criticaldimension，CD)；二是光刻机由工作台、光源和投影系统组成，仅投影系统就有数千块光学透镜，其技术难度是所有设备中最高的；三是光刻机的成本最高，一台先进的极紫外(EUV)光刻机售价高达10亿元人民币。

图9-1-1是荷兰阿斯麦尔公司制造的全球最先进的极紫外光刻机。;;

2.光刻版

光刻版(Mask/Re