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- 2026-09-18 发布于上海
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集成电路布图设计登记程序
集成电路是现代信息产业的核心基础,而布图设计(又称掩模作品)作为集成电路功能实现的核心载体,是集成电路设计领域最重要的智力成果之一。不同于专利、商标等其他知识产权类型,集成电路布图设计具有技术迭代快、创作投入高、复制成本低的特点,我国法律明确规定,布图设计专有权经国家知识产权局登记产生,未登记的布图设计不受法律保护。因此,规范完整的登记程序是权利人获得排他性权利、维护自身创新权益的核心前提。整个登记程序覆盖前置资格核查、申请提交受理、审查授权、后续权利维护与救济等多个环节,各环节环环相扣,既保障了登记效率,也兼顾了权利的稳定性,为集成电路产业创新发展提供了坚实的制度支
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