化学设备自动清洗系统操作与维护考核试题.pdfVIP

试卷（化学设备）

________工号_________成绩_________

一、填空题(每空5分):

1、常规化学站主要设备包括自动柜、馗鼎等离子去胶机、甩干机、刮边机。2、

馗鼎等离子去胶机功能：对晶圆进行O2sma清洁。3、HCL自动柜主要功

能：用于晶圆的蚀刻和。4、HCL自动柜的工艺槽体：HCL、QDR、511、

IPA+HN2。5、HCL自动柜WPR功能：上下/左右传送晶圆盒。

二、简答题

1、简述HCL自动柜设备的日常点检内容(20分)

≥3

CDA

压力

Kg/cm2)

.5

N2

≥3

压力(Kg/cm2)

HN2‑1压力

≥3

(Kg/cm2)

.5

HN2‑2压力

≥3

(Kg/cm2)

.5

排气压力(

Pa)

≤‑150

泄漏传感器

是否正

常

–OK/NG

DIW

压力

(Kg/cm2)

≥3

2