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SEMIF61-0324《半导体超纯水系统设计与运行指南》中文版（12英寸及以上晶圆厂超纯水系统设计指南）

SEMIF61-0324中文版

半导体超纯水系统设计与运行指南（2024版，适用于12英寸及以上晶圆厂）

1范围

本指南规定半导体工厂超纯水（UPW）与热超纯水（HUPW）系统的工程设计、设备选型、材料、施工、验证、在线监测、运维、冗余设计通用要求。适用于12英寸、18英寸晶圆制造工厂，包含先进逻辑、存储、功率器件产线，用于晶圆清洗、化学品稀释、厂务辅助用水。

本指南覆盖完整系统链路：原水预处理、主除盐制水单元、抛光处理单元、UPW循环输送管网、机台二次配（ToolHook-up）、在线监测系统、废水回用。

本指南定义UPW系统部件、专业术语，配套引用SEMIF63（UPW水质指标）、SEMIF75（UPW在线监测）等配套标准。

本指南给出新建、改造升级UPW系统的建造、鉴定、调试验收准则；同时包含材料预验证、安全、维护、系统冗余设计建议。

本指南不覆盖所有安全风险。标准使用者有责任建立安全、健康、环保管理方案，并确认当地法规适用性。

2引用SEMI标准

SEMIF63：半导体超纯水水质规范

SEMIF75：超纯水在线监测指南

SEMIF57：高纯流体系统聚合物材料析出测试方法

SEMIE10：设备可靠性术语

SEMIF84：高纯管道系统安装与焊接