CN119287484A 一种电沉积制备Al-SiC复合镀层的方法 (沈阳大学).pdfVIP

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  • 2026-11-07 发布于重庆
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CN119287484A 一种电沉积制备Al-SiC复合镀层的方法 (沈阳大学).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119287484A

(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411426126.5

(22)申请日2024.10.14

(71)申请人沈阳大学

地址110000辽宁省沈阳市大东区望花南

街21号

(72)发明人阚洪敏吴江齐麟新王晓阳

(51)Int.Cl.

C25D15/00(2006.01)

C25D3/44(2006.01)

C25D5/34(2006.01)

C25D5/00(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图2页

(54)发明名称

一种电沉积制备Al-SiC

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