CN119287349A 一种常压等离子体增强化学气相沉积镀膜设备及镀膜方法 (卓仁全).pdfVIP

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  • 2026-11-07 发布于重庆
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CN119287349A 一种常压等离子体增强化学气相沉积镀膜设备及镀膜方法 (卓仁全).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119287349A

(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411409054.3

(22)申请日2024.10.10

(71)申请人卓仁全

地址401236重庆市长寿区海棠镇金子村2

组190号

(72)发明人卓仁全

(74)专利代理机构东莞市华南专利商标事务所

有限公司44215

专利代理师黎雪芬

(51)Int.Cl.

C23C16/505(2006.01)

C23C16/448(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图4页

(54)发明名称

一种常压等

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