CN119287312A 掩膜框架及制作方法、掩膜板组件 （江苏高光半导体材料有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119287312A

(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411411778.1

(22)申请日2024.10.10

(71)申请人江苏高光半导体材料有限公司

地址212499江苏省镇江市句容市经济开

发区阳山路19号

(72)发明人钱超甘帅燕

(74)专利代理机构北京允天律师事务所11697

专利代理师李建航李江宁

(51)Int.Cl.

C23C14/04(2006.01)

C23C14/24(2006.01)

H10K71/16(2023.01)

H10K71/00(2023.01)

H10K59/10(2023.01)