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镀膜岗位面试题及答案

一、单项选择题（共10题，每题3分，共30分）

1.在物理气相沉积（PVD）工艺中，利用高能粒子撞击靶材，使靶材原子溅射出来并沉积在基材上的方法称为（）。

A.蒸发镀膜

B.溅射镀膜

C.离子镀

D.化学气相沉积

2.真空镀膜设备中，用于将大气压力降低到10?3Pa数量级的泵是（）。

A.油扩散泵

B.干式螺杆泵

C.旋片式机械泵

D.罗茨泵

3.下列哪种镀膜材料通常呈现金黄色，且硬度较高，常用于刀具和模具的硬质涂层？（）

A.TiO?

B.CrN

C.Al?O?

D.ZnS

4.在溅射镀膜过程中，为了提高膜层的附着力，通常会在基材上施加（）。

A.正偏压

B.负偏压

C.交流电

D.直流高压

5.镀膜过程中，基板温度对膜层结构有重要影响。一般来说，随着基板温度的升高，晶粒会（）。

A.变大

B.变小

C.不变

D.消失

6.真空室内的残余气体主要来源于（）。

A.被镀材料

B.真空系统泄漏及材料放气

C.冷却水

D.镀膜电源

7.在PVD/CVD镀膜工艺中，真空度越高，意味着（）。

A.气体分子密度越大

B.气体分子平均自由程越长

C.气体分子平均自由程越短

D.气体分子运动越慢

8.下列哪种缺陷通常是由于基材表面清洁度不够或真空度低导致的？（）

A.橘皮

B.起泡