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第55卷第11期2006年11月 物 理学 报
1000—3290/2006/55(11)/6123—06 ACTAPHYSICASINlCA ⑥2006
Chin.Phys.Soc.
带状畴与热释电性能的研究*
刘 洪1’ 蒲朝辉1’ 龚小刚1’ 王志红2’ 黄惠东2’
李言荣2’ 肖定全1’ 朱建国1’+
1)(四川大学材料科学与工程学院,成都610064)
2)(电子科技大学微电子与固体电子学院,成都610054)
(2006年3月3日收到;2006年4月25日收到修改稿)
压电响应力显微镜(PFM)分别观察了PLT薄膜的表面形貌和对应区域的电畴结构.PFM观察显示PLT薄膜中存在
90。纳米带状畴,电畴的极化为首尾相接的低能量的排列方式,带状畴的宽度为20一60nm.研究了PLTIO铁电薄膜的
制备条件与性能之间的关系.发现在优化条件下制备的PLTl0铁电薄膜的介电常数e,为365、介电损耗tg占为
0.02,热释电系数7为2.18×10~C·(cm2·K),可以满足制备非制冷红外探测器的需要.
关键词:PLT薄膜,电畴,PFM,极化
PACC:7755,7780D,7770
为铁电薄膜的电畴结构的观察提供了新的途径¨引.
1.引 言 铁电薄膜中的电畴反转伴随着一定的压电效应,而
这种压电效应表明了电畴的空间重组。13I.利用PFM
由于铁电薄膜具有独特的介电、铁电、压电、存 观察样品的电畴结构,同时采用AFM模式能得到同
储、热释电、非线性光学效应等功能特性,可以在微 一区域的表面形貌,而且对样品无破坏.除了薄膜样
机电系统、红外探测器、铁电存储器、电光开关等方 品需要具有底电极和适宜的尺寸外,对样品不需作
面获得广泛应用,从而在近年来已经成为了世界范 其他处理,PFM可在大气环境下操作,成像迅速、电
围内的新材料的研究热点之一’1_3o.在众多的铁电 畴图像的分辨率高,可达到纳米级,对畴结构无损伤
薄膜之中,(Pb,La)TiO,(PLT)薄膜随着La的掺入量性‘1….通过锁相放大器,从调制的静电力信号就能
的不同,其性能可以在较大的范围内进行变化,从而 够得到样品的电畴结构的信息¨4;.锁相放大器的相
在非致冷热释电红外传感器与红外热成像器件¨’51、 位,可以被调制成显示为在电畴图像中的黑暗(明
电光开关与光波导器件№。等方面获得了广泛应用. 亮)的区域.
要更好地了解铁电薄膜的各种功能特性,就要 铁电薄膜的电畴与其制备条件、结晶状态关系
确定铁电薄膜中的电畴结构.电畴的传统检测方法 十分密切,而结晶良好、电畴结构均匀、畴界清晰的
铁电薄膜,具有优良的电学性能.本文利用射频磁控
有SEMn],TEM[8。,偏光显微镜阳],表面腐蚀¨们和粉
末花样技术口川等.这些方法存在制样过程复杂、破
坏样品、电畴成像分辨率低等缺点.扫描力显微镜
(SFM)的原子力模式(AFM)和压电响应模式(PFM)工艺下PLTl0铁电薄膜的结晶特性与电畴性能,并
课题.
t通讯作者,E.mail:nic0400@scu.edu.cn
万方数据
物 理 学 报 55卷
研究了PLTl0铁电薄膜的介电与热释电性能 表面的迁移率更大,PLTl0铁电薄膜的表面更加光
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